В МГУ разработан способ точного контроля за ионами в плазменных технологиях, совмещающий экспериментальные измерения с математическим моделированием.
Воздействие с помощью ионов на поверхность различных материалов – основа современных технологий плазменной обработки, таких, как плазмохимическое травление (удаление слоя определённой толщины) и осаждение металлов, полупроводников и диэлектриков. При этом необходим высокоточный контроль различных параметров плазмы, в том числе энергий ионов, особенно при проведении травления с атомно-слоевой точностью...
подробнее » Иллюстрация к статье:
Обсуждение